1 熱障涂層概述
1．1 熱障涂層原理
1．1．1 無機涂層
1．1．2 熱障涂層
1．2 熱障涂層結構設計
1．2．1 雙層結構涂層
1．2．2 多層結構涂層
1．2．3 功能梯度涂層
1．2．4 厚涂層
1．3 熱障涂層陶瓷層材料的性能要求
1．3．1 高熔點
1．3．2 良好的高溫相穩(wěn)定性
1．3．3 低熱導率
1．3．4 高線膨脹系數(shù)
1．3．5 與TGO層之間良好的化學穩(wěn)定性和黏結性
1．3．6 良好的耐腐蝕性
1．3．7 低彈性模量以及較高的硬度和韌性
1．3．8 低燒結率
1．4 熱障涂層的失效機理
1．4．1 TGO的生長
1．4．2 陶瓷層的燒結作用
1．4．3 陶瓷層中的相變
參考文獻

2 熱障涂層材料的合成
2．1 概述
2．1．1 粉末密度的表征方法
2．1．2 粉末的制備方法
2．2 多元陶瓷粉末的制備方法
2．2．1 液相法
2．2．2 固相法
2．2．3 感應等離子體合成法
2．3 團聚體粉末的制備方法
2．3．1 球磨法
2．3．2 噴霧干燥法
參考文獻

3 熱障涂層的制備
3．1 熱噴涂
3．1．1 火焰噴涂
3．1．2 爆炸噴涂
3．2 等離子噴涂
3．2．1 等離子嘖涂原理和設備
3．2．2 PS法涂層的形成過程
3．3 電子束-物理氣相沉積法（EB-PVD法）
3．3．1 電子束-物理氣相沉積原理和設備
3．3．2 葉片EB-PVD涂層的生產(chǎn)過程
3．3．3 熱障涂層的其他制備方法
參考文獻

4 陶瓷粉末及涂層微觀組織結構分析方法
4．1 X射線衍射技術
4．1．1 X射線衍射技術簡介
4．1．2 X射線粉末衍射技術
4．1．3 X射線雙晶衍射技術
4．1．4 X射線三晶衍射技術
4．2 掃描電子顯微鏡
4．2．1 掃描電子顯微鏡的工作原理
4．2．2 掃描電鏡的儀器結構
4．2．3 配套設備及其用途
4．3 透射電子顯微鏡
4．3．1 電子的波長與加速電壓
4．3．2 透射電鏡的構造
4．4 拉曼光譜分析
4．4．1 基本原理
4．4．2 基本構成及其工作原理
4．4．3 拉曼光譜的特點
4．4．4 拉曼光譜的應用
4．5 X射線光電子能譜分析
4．5．1 方法原理
4．5．2 儀器結構和工作原理
4．6 紅外光譜儀
4．6．1 基本原理
4．6．2 紅外光譜儀的特點及應用
4．7 彈性系數(shù)
4．8 差熱分析
4．8．1 差熱分析的基本原理
4．8．2 差熱曲線的峰面積及過程熱效應
4．8．3 差熱分析的影響因素
4．9 陶瓷涂層的熱物理性能的測量
4．9．1 陶瓷涂層的熱物理性能的理論基礎
4．9．2 熱擴散系數(shù)的測量
4．10 密度測定及孔隙率測定
4．11 涂層斷裂韌性的測定
4．11．1 臨界應力強度因子KIC
4．11．2 臨界裂紋擴展能量釋放率GIC
4．11．3 裂紋密度?
4．12 涂層隔熱性能測試
4．13 熱震試驗
4．13．1 熱應力斷裂理論
4．13．2 熱沖擊損傷理論
4．14 抗高溫氧化性
4．15 耐磨損性
4．16 涂層結合強度
4．16．1 黏結拉伸法
4．16．2 界面壓入法
4．16．3 斷裂力學法
4．16．4 動態(tài)結合強度測試法
參考文獻

5 傳統(tǒng)熱障涂層
5．1 ZrO2的物理化學性質
5．2 ZrO2的晶體結構及相變特點
5．2．1 ZrO2的晶體結構
5．2．2 ZrO2的相變特點
5．2．3 ZrO2的相變穩(wěn)定
5．3 氧化鋯陶瓷的增韌機制
5．3．1 應力誘發(fā)相變增韌機理
5．3．2 表面強化增韌
5．3．3 微裂紋的增韌機理
5．3．4 彌散增韌機理
5．4 ZrO2粉體的制備
5．4．1 化學共沉淀法
5．4．2 水解沉淀法
5．4．3 溶膠-凝膠法
5．4．4 水熱法
5．5 氧化鋯陶瓷的成型方法
5．5．1 干法成型
5．5．2 濕法成型
5．6 傳統(tǒng)的熱障涂層
5．6．1 經(jīng)典的8YSZ型熱障涂層
5．6．2 8YSZ材料的摻雜修飾
5．7 新型熱障涂層材料
5．7．1 稀土鋯酸鹽
5．7．2 缺陷型螢石結構
5．7．3 鈣鈦礦
5．7．4 稀土六鋁酸鹽
5．7．5 釔鋁石榴石（YAG）
5．7．6 釔酸鹽
5．7．7 YSH
5．7．8 獨居石
5．7．9 金屬玻璃復合材料
5．8 其他熱障涂層材料
參考文獻

6 納米結構熱障涂層
6．1 納米材料及特點
6．1．1 納米材料的定義
6．1．2 納米材料的特點
6．2 納米材料制備方法
6．2．1 共沉淀法
6．2．2 溶膠-凝膠法
6．2．3 水熱合成法
6．2．4 溶劑熱法
6．3 納米熱障涂層材料
6．3．1 納米熱障涂層材料發(fā)展現(xiàn)狀
6．3．2 8YSZ納米熱障涂層材料研究現(xiàn)狀
6．4 La2O3改性8YSZ納米涂層材料的制備和表征
6．4．1 樣品合成工藝
6．4．2 XRD以及相穩(wěn)定性分析
6．4．3 熱重/差熱（TG/DSC）分析
6．4．4 SEM、TEM、HRTEM分析
6．4．5 FT-IR分析
6．4．6 晶體生長活化能的分析
6．5 Ce02改性8YSZ納米涂層材料的制備和表征
6．5．1 樣品合成工藝
6．5．2 XRD分析
6．5．3 TG/DSC分析
6．5．4 晶格常數(shù)和比表面積分析
6．5．5 FT-IR分析
6．5．6 Raman光譜分析
6．5．7 TEM和HRTEM分析
6．5．8 晶體生長活化能的研究
6．6 La2（Zr0．7Cen3）2O7的材料粉體的制備和表征
6．6．1 樣品合成工藝
6．6．2 XRD以及電子衍射能譜分析（EDS）分析
6．6．3 拉曼光譜分析
6．6．4 熱重/差熱分析
6．6．5 晶格常數(shù)分析
6．6．6 傅里葉紅外光譜（FT-IR）分析
6．6．7 致密度與體積收縮分析
6．6．8 LZ7C3的微觀組織形貌
6．6．9 LZ7C3、LZ以及8YSZ材料的力學性能研究
6．6．10 LZ7C3材料的熱膨脹系數(shù)
6．6．11 LZ7C3材料的熱導率
參考文獻