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基于微納米工藝技術的新型光纖模式干涉器件原理與應用

包郵 基于微納米工藝技術的新型光纖模式干涉器件原理與應用

出版社:科學出版社出版時間:2017-03-01
開本: 32開 頁數: 132
本類榜單:工業技術銷量榜
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基于微納米工藝技術的新型光纖模式干涉器件原理與應用 版權信息

基于微納米工藝技術的新型光纖模式干涉器件原理與應用 本書特色

本書論述了基于微納米結構和尺度的新型光纖模式干涉器件的原理、建模、制備和特性,包括具有微納米厚液晶涂敷層的長周期光纖光柵和局部彎曲的微納米光纖模式干涉儀。應用四層模型分析了具有高折射率微納米涂敷層的長周期光纖光柵中的模式遷移效應和調諧特性,采用刷涂工藝在LPFG表面制備了不同厚度的液晶涂敷層,利用模式遷移效應在實驗上實現了LPFG 的大范圍熱光/電光調諧;用階梯近似法和直波導等效法分析了具有彎曲結構的錐形微納米光纖的傳輸特性,理論研究并實驗驗證了基于此類結構的模式干涉儀傳輸譜的溫度不敏感條件,實現了高靈敏度折射率傳感和微位移傳感。

基于微納米工藝技術的新型光纖模式干涉器件原理與應用 內容簡介

本書論述了基于微納米結構和尺度的新型光纖模式干涉器件的原理、建模、制備和特性,包括具有微納米厚液晶涂敷層的長周期光纖光柵和局部彎曲的微納米光纖模式干涉儀。應用四層模型分析了具有高折射率微納米涂敷層的長周期光纖光柵中的模式遷移效應和調諧特性,采用刷涂工藝在LPFG表面制備了不同厚度的液晶涂敷層,利用模式遷移效應在實驗上實現了LPFG 的大范圍熱光/電光調諧;用階梯近似法和直波導等效法分析了具有彎曲結構的錐形微納米光纖的傳輸特性,理論研究并實驗驗證了基于此類結構的模式干涉儀傳輸譜的溫度不敏感條件,實現了高靈敏度折射率傳感和微位移傳感。

基于微納米工藝技術的新型光纖模式干涉器件原理與應用 目錄

第1章 緒論1.1 研究背景與意義1.2 典型光纖模問干涉器件的研究現狀與發展趨勢1.2.1 典型光纖模間干涉器件一:光纖光柵1.2.2 典型光纖模間干涉器件二:錐形光纖1.3 實現新型光纖模間干涉器件的微納米工藝技術1.3.1 光纖表面和表層微納米薄膜工藝1.3.2 微納米光纖的加工工藝1.4 本書的研究思路與主要研究內容1.4.1 研究思路1.4.2 本書結構安排參考文獻第2章 覆蓋微納米高折射率涂敷層的長周期光纖光柵的理論分析與模擬計算2.1 四層模型LPFG的模式耦合2.1.1 各包層模的有效折射率和傳輸常數2.1.2 耦合系數和耦合常數2.1.3 四層模型LPFG的模式耦合方程2.1.4 諧振條件2.2 四層模型LPFG的數值計算和模擬分析2.2.1 四層模型LPFG的透射譜的模擬計算方法2.2.2 高折射率微納米涂敷層對LPFG模場分布的影響2.2.3 不同微納米涂敷層折射率下的LPFG的頻譜和大范圍波長調諧2.2.4 LPFG的包層半徑對諧振峰漂移量的影響2.3 本章小結參考文獻第3章 具有彎曲結構的錐形微納米光纖的理論分析與模擬計算3.1 錐形微納米光纖的結構模型3.2 直錐形微納米光纖的傳輸特性3.2.1 束腰區微納米光纖的基本特性3.2.2 直錐形過渡區域的基本理論3.2.3 直錐形微納米光纖傳輸譜的模擬計算3.3 彎曲的錐形微納米光纖的傳輸特性3.3.1 彎曲的錐形過渡區域的絕熱條件與非絕熱條件3.3.2 非絕熱彎曲的錐形過渡區域的模式耦合分析3.3.3 非絕熱彎曲錐形微納米光纖的傳輸譜的模擬計算3.4 本章小結參考文獻第4章 覆蓋微納米液晶涂覆層的長周期光纖光柵特性的實驗研究4.1 液晶材料簡介及其折射率測量4.1.1 液晶的特點及分類4.1.2 液晶折射率的測量原理4.1.3 不同溫度下液晶折射率的測量方法4.1.4 不同溫度下液晶折射率的實驗測量結果4.2 覆蓋微納米液晶涂覆層的LPFG器件的制備4.2.1 器件結構參數優化計算4.2.2 器件制備4.3 覆蓋微納米液晶涂覆層的LPFG器件的調諧特性研究4.3.1 熱光調諧特性4.3.2 電光調諧特性4.3.3 特定溫度下的大范圍電光調諧特性4.4 本章小結參考文獻第5章 基于彎曲結構錐形微納米光纖的模間干涉儀特性的實驗研究5.1 微納米光纖拉伸系統及工藝簡介5.2 微納米光纖獨特的物理特性5.3 基于彎曲結構的錐形微納米光纖模間干涉儀的制備及傳輸譜特性5.4 基于彎曲結構的錐形微納米光纖模間干涉儀的傳感特性研究5.4.1 高靈敏度折射率傳感特性5.4.2 溫度特性5.4.3 微位移傳感特性5.5 本章小結參考文獻第6章 結束語6.1 本書主要工作6.1.1 覆蓋高折射率微納米涂敷層的LPFG的理論分析與實驗研究6.1.2 具有彎曲結構的錐形微納米光纖的理論分析與實驗研究6.2 研究主要創新點6.3 工作展望
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